Zinātniskās darbības atbalsta sistēma
Latviešu English

Publikācija: Tekstiliju virsmas modifikācija ar materiālu izputināšanas tehnoloģiju

Publikācijas veids Publikācija RTU zinātniskajā žurnālā
Pamatdarbībai piesaistītais finansējums Nav zināms
Aizstāvēšana: ,
Publikācijas valoda Latviešu (lv)
Nosaukums oriģinālvalodā Tekstiliju virsmas modifikācija ar materiālu izputināšanas tehnoloģiju
Nosaukums angļu valodā Textile Surface Modification of Materials by Sputtering Technology
Pētniecības nozare 2. Inženierzinātnes un tehnoloģijas
Pētniecības apakšnozare 2.5. Materiālzinātne
Autori Anna Šutka
Silvija Kukle
Atslēgas vārdi obtaining of thin layers by melting, rate of sputtering, textile surface modification, magnetron sputtering system,
Anotācija Pētījumā apskatīta informācija par tekstiliju virsmas modifikāciju ar materiāliem plāno kārtiņu veidā. Tā ir daudzsološa tehnoloģija tekstiliju funkcionalizācijai, kas ļauj izveidot metālu, oksīdu, polimēra un kompozītu pārklājumus uz tekstila materiāla virsmas. Procesa rezultātā tekstilmateriālam līdztekus esošajām unikālajām īpašībām tiek piešķirtas paredzamajam lietojumam nepieciešamās papildīpašības. Produktīvākā no plāno kārtiņu iegūšanas tehnoloģijām ir materiālu izputināšana ar plazmas joniem. Tās svarīgākās priekšrocības salīdzinājumā citām tekstilmateriālu virsmu pārklājumu iegūšanas metodēm: 1) ir viegli izputināmi pat visgrūtāk kūstošie materiāli; 2) iegūtajām pārklājumu kārtiņām ir labāka adhēzija ar materiālu; 3) kārtiņas biezumu, sastāvu, struktūru un vienmērīgumu ir viegli kontrolēt pielāgojot parametrus uzputināšanas procesa laikā atbilstoši materiāla īpašībai.
Anotācija angļu valodā The study examined information on the textile surface modification of materials with a thin layer. It is a promising technology in the textile functionalization, allowing the creation of metallic, oxide, polymer composites and coatings for textile materials. The process gives the unique features to textile and also is given the necessary additional features. A more productive method is sputtering. In jon sputtering deposited matter particles are broken from the target surface, the bombing of low temperature ion plasma. Ion sputtering types is the cathode, magnetron, reactive magnetron, etc., which differ from one another by low-temperature plasma distribution space. If the sputtering process is of chemical reagents (gas phase) in the presence, then the sample surface is formed by the interaction sputtering substances in products (such as oxides, nitrides). This is called a reactive sputtering. Reactive magnetron sputtering used to sputter films of chemical compounds, mainly oxides and nitride. Entering the vacuum chamber, argon, accompanied by dosing the amount of these reactive gases: oxygen or nitrogen. Particular attention is paid to the purity of the reagents and the airtight chamber, which could impair the results obtained by sputtering. [8]. Magnetron sputtering major advantage over other textile surface coating production methods: 1) even the most difficult melting materials are easily to sputter, 2) the resultant coating films have better adhesion to the materials; 3) high sputtering rate at low operating voltage (300-700 V) and at low working gas pressures (5 ∙10 -4 - 1 ∙ 10-2 Торр); 4) deposition high purity, 5) possible to obtain a uniform thickness layer on a large-area substrates [8], 6) layer thickness, composition, structure and smoothness is easy to control the adaptation parameters of sputtering process the properties of the material.
Atsauce Šutka, A., Kukle, S. Tekstiliju virsmas modifikācija ar materiālu izputināšanas tehnoloģiju. Materiālzinātne. Tekstila un apģērbu tehnoloģija. Nr.5, 2010, 153.-156.lpp. ISSN 1691-3132.
Pilnais teksts Pilnais teksts
ID 9674